2000. január 17. 23:56, Hétfő
Az Intel Corporation és a Dai Nippon Printing Co. bejelentette, hogy szövetséget alakítanak az Intel jövőben megjelenő 0.13 mikronos eljárásához fejlett fotómaszk technológiák kifejlesztésére. A Dai Nippon Printing segítsége főleg a következő generációs mikroprocesszorok sorozatgyártásához és az Intel vezető szerepének megtartásához szükséges. Az Intel processzorai jelenleg 0.18 mikronos eljárással készülnek, a 0.13 mikronra áttérés 2001-ben várható. A Dai Nippon Printing tervei szerint kereskedelmi forgalomba bocsájtja majd az általuk kifelesztendő gyártási technológiát, így nemcsak az Intel számára lesznek elérhetőek az eredmények. A fotómaszkot a chipek gyártásánál használják, a sziliciumlapka és a lézerfényforrás között van; így a fény csak a szilicium kivánt részeit éri (gyakorlatilag a chip negatívjának tekinthető), ez által alakítják ki a processzor felületén lévő áramköröket. A DNP a világ legnagyobb nyomdászati vállalata: 33000 alkalmazottja van, 1999-es forgalma 10 milliárd dollár volt. További infók:
www.intel.com/pressroom
Forrás: Virtual Zone