2001. augusztus 31. 07:54, Péntek
[Reuters] A Motorola Inc. bejelentette, hogy a társaság kifejlesztett egy olyan technológiát, amely segítségével a tömegtermelésben gyártott mikrochipek méretei drasztikusan lecsökkennek a jelenleg alkalmazott eljárásokhoz képest.
A Motorola új technológiájával a számítógépes chipek és processzorok a jelenlegi legfejlettebb technológiával készült változatoknál is mintegy 50%-kal kisebbek lehetnek. A társaság elmondása szerint a cég kutatóinak sikerült kifejleszteniük egy olyan fotomaszkot, amely segítségével az áramkörök mérete 100 nm alá csökkenhet.
Viszonyításképp az emberi hajszál hozzávetőlegesen 10 ezer nanométer vastag, a jelenlegi legfejlettebb chipgyártási technológia pedig 157 nm-es legkisebb méreteket tesz lehetővé a chipben. A chipek a megszokott fotolitográfiai eljárással készülnének, amely során kiégetik a szilíciumot az alapanyagból azon helyeken ahol nem kell lennie, kialakítva ezzel az áramkört.
A Motorola a fotomaszkokat Extreme Ultra-Violet (EUV - Extrém ultraibolya) fotolitográfiai eljáráshoz készítette, amely rövidebb hullámhosszú fény alkalmazásával precízebb, részletesebb kialakítást tesz lehetővé. Joe Mogab, a Motorola DigitalDNA Laboratories részlegének igazgatója egy interjúban elmondta, hogy az EUV eljárással akár 13 nm vastagságú vonalak is vághatók a szilíciumba.
Mivel a Motorola új technológiája szabványos eljárásokra épül, a társaság a jövőben minden további nélkül licenszelheti majd más cégeknek is. Az új technológiára épülő gyártóeszközök 2005. környékén kerülhetnek bevezetésre a chipgyártásban, és a jelenlegi legújabb, 130 nm-eljáráshoz képest 50 nm-es eljárások alapja lehet majd.
Informatika és tudomány