Módosult az Intel chipgyártási ütemterve

Az Intel rövid időn belül immár másodszor változtatott chipgyártással kapcsolatos ütemtervén, amikor is kivette abból a 157 nanométeres litográfiai eszközökkel történő gyártási terveket.

Szakértők szerint az Intel ezen döntése várhatóan komoly negatív hatást gyakorol majd a 157 nanométeres gyártóeszközök, illetve az ezen gyártási eljárások közben használandó alapanyagok fejlesztésével foglalkozó cégekre.

A világ legnagyobb chipgyártó cégeként nyilvántartott Intel eredetileg azt tervezte, hogy a 193 nanométeres, illetve a már említett 157 nanométeres eszközöket először a 45 nanométeres, vagyis 0,045 mikronos csíkszélességű mikroprocesszorok gyártásához fogja felhasználni, mely chipek tömeggyártását egyébként 2007-re vette tervbe az Intel. A legfrissebb Intel roadmap szerint azonban a chipgyártó a 0,045 mikronos csíkszélességű processzorok gyártásához még nem fogja felhasználni a fejlettebb, 157 nanométeres eszközöket, melynek hátterében egyes források szerint különböző technológiai nehézségek állnak. A 157 nanométeres gyártóeszközök kifejlesztésében állítólag az jelenti a legnagyobb nehézséget, hogy egyelőre nem állnak rendelkezésre a megfelelő optikai lencse alapanyagok.

Peter Silverman, az Intel litográfiai fejlesztésekkel foglalkozó részlegének igazgatója az üggyel kapcsolatban elmondta, hogy a nem várt nehézségek miatt az Intel korábbi terveivel ellentétben három chiptechnológiai generációra szeretné kiterjeszteni a 193 nanométeres eszközök használatát. Silverman elmondása szerint az Intel a 0,09, a 0,065, illetve a 0,045 mikronos csíkszélességgel rendelkező következő generációs mikroprocesszorait egyaránt 193 nanométeres litográfiai eszközök segítségével fogja előállítani.

A szakértőket egyébként nem érte váratlanul az Intel mostani ütemterv módosítása, ugyanis szakmai körökben már hosszabb ideje ismert, hogy a 157 nanométeres litográfiai eszközök kifejlesztése kapcsán olyan jelentős nehézségek adódtak, melyek miatt ezen berendezések 2007-es bevezetése lényegében kivitelezhetetlenné vált. Az Intel a hét elején értesítette a döntésről a számára különböző litográfiai eszközöket szállító két nagyvállalatot, a hollandiai székhelyű ASML Holdingot, illetve a japán Nikon Corporationt.