SiGe technológia az Intel 90 nm-es chipjeiben

A chipóriás csütörtöki bejelentése szerint a társaság 90 nm-es csíkszélességű gyártástechnológiájának a SiGe (szilícium-germánium) technológia is része lesz.

A SiGe technológia fehasználási területének megfelelően elsősorban a chipóriás kommunikációs chipjeiben lesz megtalálható, a számítógépes processzorok gyártási eljárásából azonban hiányozni fog, derült ki Pat Gelsinger Intel technikai igazgató csütörtöki beszédéből. "Mint a 90 nm-es chipgyártási eljárásunk része, alkalmazni fogjuk a SiGe technológiát" - mondta Gelsinger az Intel Developer Forum 2002 Fall konferencia zárónapján.

A társaság az elmúlt márciusban jelentette be új, 90 nm-es technológiáját, amely kizárólag a hatékonyabb, olcsóbb gyártást lehetővé tévő, 300 mm-es szilíciumostya alapanyagokkal dolgozó gyártósorokon lesz megtalálható. Az első 90 nm-es technológiával készülő chip a Prescott kódnevű Pentium 4 processzor lesz a jövő év második felében.

Idén márciusban az Intel már olyan, teljesen működőképes SRAM memóriachip prototípusokat mutatott be, amelyek az új, 90 nm-es technológiára épülnek. Az 52 Mbites SRAM chipek kiváló tesztelési lehetőséget kínáltak az Intelnek az új, P1262 elnevezésű 90 nm-es technológiához.

A chipóriás az elmúlt hónapban bejelentette, hogy 90 nm-es technológiájának részeként a világon elsőként fog feszített szilíciumot alkalmazni chipjeiben, megelőzve ezzel többek között az IBM-et is. A SiGe technológia alkalmazásával az Intel újabb, jelentős előrelépést tehet a kommunikációs chipek piacán.