Az Intel magasabb sebességi fokozatba kapcsol

A világ legnagyobb chipgyártó cége, az Intel az elmúlt napokban többször is említést tett jövőbeli terveiről, így például a tegnapi napon kiderült, hogy a mamutcég fel kívánja gyorsítani a 0,09 mikronos gyártási technológiára történő átállást. Craig Barrett, az Intel elnök-vezérigazgatója, és egyben elnöke szerint a teljesen új gyártási technológia bevezetésére már 2003 elején sor kerül majd, vagyis megközelítőleg fél évvel korábban, mint ahogy azt a cég korábban tervezte.

Egyelőre kérdéses, hogy melyik Intel processzort gyártják majd elsőként ezzel az új, 0,09 mikronos csíkszélességgel kecsegtető gyártási technológiával. Különböző források szerint a közeljövőben debütáló Northwood magos Pentium 4-es processzorok utódja készül majd először ilyen gyártási technológiával, mely valljuk be, igen valószínű. Az eredetileg az idei év végére időzített, 0,13 mikronos csíkszélességgel készülő Northwood magos Pentium 4 a jövő év elején, várhatóan januárban lát majd napvilágot, és nagyon valószínű, hogy pályafutása nem tart majd tovább egy évnél. Ez az egy év azonban bőven elegendő lesz arra, hogy a Northwood kifussa magát, és 2003 elején már helyébe is léphet a 0,09 mikronos csíkszélességű új Intel csúcsprocesszor, melynek jelenleg még a fejlesztési kódneve is ismeretlen.

Ezek alapján logikusnak látszik az a feltételezés is, miszerint a hordozható számítógépekbe szánt újgenerációs mobil Intel processzor, a Banias már 0,09 mikronos gyártási technológiával készül majd, ugyanis az Intel legfrissebb ütemterve szerint a Banias debütálására 2003-ban, azaz az új gyártási technológia megjelenésének évében kerül majd sor. Az Intel egyébként korábban azt ígérte, hogy a Banias lesz a cég első olyan, teljesen új architektúrára épülő mobil processzora, mely szakít azon hagyományokkal, miszerint egy mobil chip általában az asztali számítógépekbe szánt processzor egyszerűen módosított változata. Ezzel némileg ellentmondásban van az, hogy az Intel az idei mikroprocesszor fórumon bejelentette, hogy a Banias a jóöreg P6-os architektúrára épül majd, mely kérdéses, hogy 2003-ban mire lesz elegendő.

Az Intel 0,09 mikronos gyártási technológiájáról azt is tudni lehet, hogy kapásból két verzió létezik majd belőle. A P862 technológia a hagyományos 200 milliméteres átmérőjű szilíciumszeletre épül, a P1262 pedig a nagyobb, 300 milliméteres szeletekre, a rezes csatlakoztatási technikát azonban mindkét gyártástechnológia esetében alkalmazzák majd. Ezt követően egyébként 2005-ben debütál a 0,065 mikronos (P1264), 2007-ben a 0,045 mikronos (P1266), 2009-ben pedig a 0,032 mikronos (P1268) gyártási technológia.