IBM áttörés a chip­gyártás­ban

IBM áttörés a chip­gyártás­ban

2006. február 23. 10:33, Csütörtök
Az IBM a Szilícium-völgyben tartott konferencián ismertette felfedezését, mellyel szerintük időt nyertek a költségesebb, és a még gyakorlatban bizonyításra váró chipgyártási technikákra történő átváltásra.

A félvezető ipar évtizedeken át folyamatosan zsugorította áramköreit a chipek és az azokat alkalmazó eszközök teljesítményének és funkcióinak növelése érdekében. Ahogy a chipek alkotóelemei kezdik megközelíteni az atomi és molekuláris méreteket, a fejlődés üteme - melyet Moore törvénye fogalmazott meg - egyre inkább veszélybe kerül, ezen próbál segíteni az IBM.

A korábban feltételezettnél is kisebbé és olcsóbbá teheti a számítógép processzorokat a jelenlegi chip gyár­tási tech­nológia, állítják az IBM kutatói. A cég kuta­tásai azt bizo­nyítják, hogy a szé­les körben alkal­mazott optikai litográfiai eljárásban megvan a lehe­tőség a chip áram­körök mai elektronikai szab­ványainak harmad­részére való csökken­tésére, így nagyobb memória sűrű­séget, vagy nagyobb memória kapa­citást érhet­nének el kisebb he­lyen. A technika tovább­fejlesztése csu­pán a chip­gyártók befek­tetési ked­vén múlik, vélekedik a vállalat, hozzátéve, hogy céljuk kihozni a maxi­mumot az optikai litográfiából, ezál­tal a lehető leg­tovább halo­gatni a költsé­gesebb alter­natívák irányába történő elmoz­dulást. Az IBM sze­rint az ipar így kb. hét évnyi lélegzetvételhez jut és csupán ez idő után lesz szükség radikális változtatásokra.

Az IBM tudósai nem csupán elméletben foglalkoznak a témával: ultraibolya optikai litográfiával megalkották az eddigi legparányibb vonalmintát. A jól elkülöníthető, egységesen elhelyezett barázdák kevesebb, mint 30 nanométer szélesek, ami nagyjából egyharmada a tömeggyártásban alkalmazott 90 nanométernek és átlépte a 32 nanométeres határt, amit az ipar az optikai litográfia határaként tart számon.

Kapcsolódó linkek

Listázás a fórumban 
Adatvédelmi beállítások